我們平常所說的鋁型材氧化主要是說普通的陽極氧化。但有時我們會聽到硬質氧化這一說法。硬質氧化并不是氧化膜更厚一點的普通氧化。它們的工藝是不同的。鋁型材 硬質氧化和普通陽極氧化 工藝上的區別 主要有三點：

1、電解液濃度差異： 普通氧化濃度一般20%左右，硬質 氧化一般在15%或更低。

2、電流/電壓差異： 普通氧化電流密度一般在1-1.5A/dm2;而硬質氧化 電流更高，1.5-3A/dm2

3、溫度不同： 普通氧化水溫在18-22℃左右，有添加劑的 情況下可以達 到30℃，溫度過高易出現粉末或裂紋;硬質氧化一般在5℃以下，相對來說溫度越低硬質越高。 

下面我們來比較一下氧化膜方面的差異：

1、表面狀態： 普通氧化表面較平整，而硬質氧化表面比較粗糙。

2、膜層厚度： 鋁合金硬質氧化一般膜層厚度>15μm，過低達不到硬度的要求，而普通氧化厚度也可以達到 15μ，但是硬度沒有那么高 。 

3、孔隙率不同： 普通氧化孔隙率高，而硬質氧化孔隙率低。 

4、適用場合不同：普通氧化適用于裝飾為主， 適用范圍比較廣泛。而硬質氧化以功能為主，一般用于耐磨、耐電的 特殊 場合。

這些是我們平常用的較多的性能方面的比較，還有其他許多方面的差異，歡迎大家補充 。